为什么国产芯片厂,不愿意用国产光刻机,更愿意找ASML?
为什么国产芯片厂,不愿意用国产光刻机,更愿意找ASML?
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网友解答:
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国内唯一生产厂上微90nm的前道光刻机只有几台样机,06年买的尼康技术生产的,那时国外不封锁咱,估计现在不会转让技术了哪怕落后的。卖的好的主要产品是技术简单后道封装光刻机。
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那肯定是国产的造不出来呗!或者根本就没有。要不就是造不出合格的芯片。不然就是一天生产十个,也肯定用国产的,这是爱国的原则问题。
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我国芯片企业,只认钱,没有大格局。若以美国为首的西方发达国家,全面对我国半导体产业脱钩、封禁,这些芯片企业,连最后一滴悔不当初的眼泪都挤不出来!
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光刻机有几代了,最先进的EUV没有国产的,全世界就一家公司有,这玩意比什么原子弹氢弹难多了,你看有多少国家有原子弹氢弹,EUV光刻机就ASML一家能组装,别无分号,对你没看错是ASML组装,因为需要大约十万个零件,集合了世界上精密领域的最牛公司,美国的日本的德国的等等公司的零部件送到ASML组装,也就是说没有一个国家能独立造EUV.
ASML说图纸给你你也造不出来,这话没错,安装顺序都会影响最终性能,十万个零件你去排列组合试试,你多久能搞出来,因为你装出来机器要验证吧,验证不是一次就完事了,你要看稳定性吧,这都需要时间,当然他不会给图纸,举例现在差距30年,图纸节省一两年追赶时间他也不愿意。
说完EUV再说DUV,这个多了两家半能生产,日本两家佳能尼康,还有半个上海微,DUV里面还分浸润式和早期型号叫什么忘记了,浸润式基本也是ASML的天下。对机台能力要求不太高的制程DUV佳能尼康还有一点点份额。上海微还在研发,网上看90nm研发要出来了,还说多次曝光还可以做28nm,我只能说快洗洗睡吧,我先不说他是否真研发出来了,就算能做出来28nm产品也不能批量生产,没人用呀,有人说为啥不能用啊,你不用国产他怎么进步,你这买办外国就是你祖宗是不?我给你解释一下,解释完你就知道为啥,晶圆生产需要多次曝光过程,根据制程不同从十几到接近百次,28nm大约四五十次,也就是四五十张光罩,如果你用90nm机台通过多次曝光理论上是有可能做到的,也就是说ASML四五十张光罩大概两个月吧生产完事,你用90的国产光刻机就可能变成了六七十张光罩才能完成,生产周期可能就是三个月,每多一层缺陷也会增多,结论就是良率低时间久,正常一片晶圆可以9成良率国产可能就剩5成,这里还涉及步骤多你就要消耗其它机台,材料,成本高了好多,甚至高几倍。没有国产设备的成本一片举例是1000美元,国产设备出来可能就是5000美元了,到市场上去卖最终产品,无论是手机平板还是汽车工业通讯领域,各位天天嘴上爱国的朋友该你们出手了,同性能的国外产品卖2000赚了1000,国产的卖5000没赚钱,请你们出手支持国产赶紧买吧,国产的很诚意我都成本价卖都没赚钱啊,别抱怨性价比了,还不要提可靠性啊,就现在这情况请问有几个中国老百姓愿意掏腰包,支持一次可以,产品不停迭代你愿意买几次国产的,留言区我看看能有几个人会永远支持买国产性价比差的,我想万分之一都没有吧。因为嘴上爱国容易掏钱难啊。高了卖不出去企业结果就是倒闭,所以根本就没有企业敢用,信息上看到的那都是实验研究懂吗?网上看某某机构或者中心用某某方法做出了1nm产品,你可能就没法工业化生产。和商业化可能是十万八千里的差距,你看着和国外差距是三五年,可能就需要三五十年去追,天天喊着弯道超车超了几十年了也没超过去,半导体涉及领域太多,追到根上可能是需要各领域革命。教育需要革命,科学机制需要革命等等,扯远了。
再回到光刻机,接下来还有更低一代的光刻机I~line,国产的可能有商业化了,具体我不知道,去看市占率,但是是用到太阳能行业PCB还是半导体行业我也查不到,总之差距之大远超你想象。这还没说其它机台。只能是国家默默支持一旦战争断供芯片不至于没有,到时候就不需要看性价比了。希望建国一百周年的时候我们能追上或者赶超国外水平,这就是成功。
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国产光刻机只能生产90纳米的芯片!90纳米以下全部依赖进口!目前能买到的是阿斯麦的14纳米!再高级的人家不卖!而三星、台积电已经试产3纳米的芯片!
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根本原因很简单,我想支持国产光刻机,但其他竞争者都不用,跑去用更先进的,那么我的企业产品可能还没量产就已经淘汰,企业面临死亡,说到底都是不齐心,内卷太严重!如果大家都选择国产,相信国产光刻机10年的差距起码缩减一半的时间,不光光刻机,其他国产产品也一样,消费者都没有大局观念,认为我花了钱,就必须要最好的,国不国产跟我没有任何关系,常此以往、差距会越来越大
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首先从性能和功能上说,ASML确实更好些,企业是要考虑经济收益的,这样做也无可厚非!对于一些已经属于上一代技术的光刻机而言,美欧目前还没有封锁,只是封锁了最新一代EUV光刻机,还给中国企业留有空间!国产光刻机国家应该列入重点支持项目,出钱出力对重点企业加以支持,我们不能放弃还应该更加努力,必须有自己的光刻机产业,并站在技术前列!
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分析相关的报道,认为这个提问中的国产芯片厂应该是日前招标光刻机等设备的上海积塔半导体,国产光刻机应该是上海微电子的低端前道光刻机。此次,ASML拿下了上海积塔半导体招标的全部光刻机订单, 3 台,全中,上海微电子全没中,投标其他设备的国产设备厂不但有中标的,而且有多个,这样的结果就让“不愿意用”、愿意用和“更愿意找”的原因一目了然了,不用说大家都明白,进而认为上海积塔半导体实在是没毛病、有道理的。
我国早就有但截至目前仍然仅有低端的光刻机
。特别值得一提的是,在ASML总装出来的EUV光刻机正式供货的2016年,上海微电子总装的90nm前道光刻机成功下线,虽然仍是低端的,严重落后于人,却标志着迈出了重要的一步,重要在是国产化的,在2007年被断供零配件后历经 9 年的时间实现,还重要在为形成又一个优势——前道光刻机奠定了更高的基础,这不,28nm光刻机很快就能造出来了,国产光刻机即将发生由低端到中端的转变和提升。
上海微电子一直以来的优势是后道光刻机集成制造
。早就达到了国际先进水平,多年来在国内和全球芯片封装设备市场上分别占80%和40%的份额,尽管复杂度相对前道光刻机低了不少。我之所以认为此次上海积塔半导体招标的是低端前道光刻机,依据就在这里。
招标结果表明了现有国产前道光刻机的不足
。对此不必怀疑,而不足十有八九是性能、技术、质量方面的,ASML在这些方面肯定是水平更高、技术更成熟的。相比之下,上海微电子的价应该是更廉的(尽管报道称ASML此次是降价销售),物却不如ASML的完美,国产低端前道光刻机需要改进和完善,以提升整体效能,达到媲美以至超过ASML。造出来国产光刻机固然是硬道理,实现了由无到有,打破了国外的垄断和封锁;造得和ASML的一样好直至更好当然是更硬的道理,就像国产后道光刻机那样。其实,
只要达到了一样好,国产芯片厂就一定会愿意用以至“更愿意找”上海微电子
。当然,上海微电子此次一单都没签下来,同在上海、作为国企的国产芯片厂不愿意用,也是件“好事”,有利于眼睛向内找原因、补不足,特别是有助于预防很可能即将要结束研制攻关阶段的28nm光刻机整机出现类似问题,更加注重技术完善度,以收好口,进一步增强全球竞争力。
国产芯片厂本来一定是怀有“感恩”之心的
。若不是上海微电子和其国内配套厂先后突破了低端和中端光刻机技术,并分别已经和即将造出低端与中端的国产化整机,国产芯片厂就不会先后分别“提前”地买到ASML集成出来的,也就是美国和荷兰就会分别再晚一些才让ASML卖给。连我们都知道,
要早一点、再早一点买到ASML的EUV高端光刻机,还得指望上海微电子和其国内配套厂以及国内有关科研机构
,何况,上海微电子可谓我们国内国产光刻机整机制造的“独苗”,国产芯片厂一定是倍加珍惜的。
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和90年代宁愿国营纺织厂倒闭,也不买其产品是一个道理。要么造不出,要么造出没有竞争力。市场有其自身规矩。可以追赶,但是需要付出时间和代价。
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网友解答:
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先入为主。这是普遍存在的现象。在商业竞争中,如果竞争对手使用国外的优势设备,那么也必然导致你也使用国外设备,因为害怕失去竞争优势。反过来也一样,后发企业也必然争先恐后的采用国外优势设备,增强竞争力。国产设备制造商只有一条路,研发降低成本,提高技术。以优质低价取胜。目前光刻机企业做不到优质低价。只有当外国制裁,买不到外国设备时才会选择使用国产设备。。。从这个意义上来说,我到是希望外国制裁封锁。西方的规则是自由市场经济,那是因为他们有先发优势。中国必然是要有计划的使用一些行政手段推动国产设备的使用,保护和促进他们的发展
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因为制程太落后,人家的已经突破十纳米之内了,我们的还停留在几十纳米的制程上,无论性能体积功耗上没可比性,而做出来的产品是需要销售给最终用户的,用户只买对的不管其他,市场竞争就是这么残酷,其他任何营销手段都是辅助,最终还是靠产品性能决定的。
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